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福建江夏学院电子信息科学学院有机光电子福建省高校工程研究中心 收藏

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研究主题:氧化铝薄膜    AL2O3薄膜    TMA    脉冲    原子层沉积    

研究学科:

被引量:3H指数:1EI: 1 北大核心: 1 CSCD: 1

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TMA脉冲和吹扫时间对原子层沉积的氧化铝薄膜的影响 ( EI收录)
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《功能材料》上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室;福建江夏学院电子信息科学学院有机光电子福建省高校工程研究中心 李春亚 张浩 宋建涛 丁星伟 魏斌  出版年:2017
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2015CB655005);上海科委资助项目(16142202900);国家博士后基金资助项目(2015M580315)
采用原子层沉积技术(ALD)进行Al_2O_3薄膜工艺研究,获得85℃低温Al_2O_3薄膜ALD的最佳工艺条件。使用椭偏仪测试厚度,使用扫描探针显微镜对薄膜表面形貌进行分析,使用紫外-分光光度计对薄膜的透过率进行分析,...
关键词:原子层沉积 AL2O3薄膜 三甲基铝  脉冲
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