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云南大学材料科学与工程学院光电信息材料研究所 收藏

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研究主题:MACE    AG    SI    NPS    硅纳米线    

研究学科:

被引量:2H指数:1EI: 1 北大核心: 1 CSCD: 1

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金属辅助化学刻蚀法制备硅纳米线的研究进展 ( EI收录)
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《材料导报》云南大学材料科学与工程学院光电信息材料研究所;云南大学国家光电子能源材料国际联合研究中心;云南大学能源研究院 王盼 童领 周志文 杨杰 王茺 陈安然 王荣飞 孙韬 杨宇  出版年:2019
云南大学服务云南行动计划基金(2016MS15);云南大学东陆中青年骨干教师(C176220200);国家自然科学基金(11504322;11804295);云南省应用基础研究项目(2016FB081;2018FD012);东陆青年项目(WX069051)~~
硅纳米线(Si NWs)由于具有独特的一维结构、热电导率、光电性质、电化学性能等特点,被广泛应用于热电与传感器件、光电子元器件、太阳能电池、锂离子电池等领域。金属辅助化学刻蚀法(MACE)是制备Si NWs的常用方法之一...
关键词:金属辅助化学刻蚀(MACE)  银纳米颗粒(Ag  NPs)辅助  硅纳米线(Si  NWs)  
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