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河北工业大学电子信息工程学院 收藏

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研究主题:化学机械抛光    CMP    去除速率    卷积神经网络    抛光液    

研究学科:电子信息类    自动化类    电气类    机械类    环境科学与工程类    

被引量:3,591H指数:22WOS: 75 EI: 145 北大核心: 807 CSCD: 518

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