福州大学物理与信息工程学院福建省光催化重点实验室

研究主题：基片温度

研究学科：电子信息类

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基片温度对真空热蒸发的SnS薄膜性能的影响: 1; 《微细加工技术》福州大学物理与信息工程学院福建省光催化重点实验室省部共建国家重点实验室培育基地贾宏杰程树英出版年：2008; 福建省科技厅重点项目;福建省自然科学基金;福建省科技三项项目资助(2008I0019;2006J0032;2006F5062);福建省光催化省部共建国家重点实验室培育基地开放课题科技厅重点项目(K-081005); 利用真空热蒸发法在玻璃基片上制备SnS薄膜，在50℃～200℃之间，研究了基片温度对SnS薄膜的结构、形貌和光电性能的影响。结果表明，随着基片温度的升高，SnS薄膜的结晶度越好，薄膜变得更光滑，薄膜颗粒也增大了；薄膜的平...; 关键词：SnS薄膜真空热蒸发性能基片温度

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