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研究主题：抛光    存储介质    化学机械抛光    基底    抗菌    

研究学科：自动化类    电子信息类    电气类    环境科学与工程类    经济学类    

被引量：3,220H指数：22WOS: 65 EI: 114 北大核心: 397 CSSCI: 11 CSCD: 349

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