文献类型：会议

作者单位：北京科技大学材料物理与化学系,北京100083北京工商大学理学院物理系,北京100048

会议文献：第5届海内外中华青年材料科学技术研讨会暨第13届全国青年材料科学技术研讨会论文集

会议名称：第5届海内外中华青年材料科学技术研讨会暨第13届全国青年材料科学技术研讨会

会议日期：2011年10月13日

会议地点：西安

主办单位：中国金属学会,中国有色金属学会,中国材料研究学会

语　　种：中文

摘　　要：利用磁控溅射的方法，在玻璃基片上制备了以不同厚度的BI 做底层的FEPT 薄膜，然后 经不同温度真空热处理，得到L10 有序结构的FEPT 薄膜；同时，系统地研究了退火时间以 及BI 底层的厚度对FEPT 薄膜的磁性能和微结构的影响。实验结果表明：利用BI 做底层， 通过BI 原子在薄膜中的扩散作用可以有效地调控FEPT 薄膜的有序化程度，从而对薄膜的矫 顽力进行控制；更重要的是，利用上述BI 原子对FEPT 原子有序化的调控作用，可以实现 FEPT 原子的快速有序化，制备出能够快速有序的L10-FEPT 薄膜。

关 键 词：磁记录薄膜材料  原子快速有序  表面活化剂  性能调控  

分 类 号：TG1] ] S12