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硅基哈氏合金薄膜磁控溅射制备及SEM、XPS分析
文献类型：会议
作者单位：合肥工业大学机械工程学院,真空科技与装备研究所；
会议文献：TFC’17全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
会议名称：TFC’17全国薄膜技术学术研讨会
会议日期：2017-08-19
会议地点：中国安徽合肥
主办单位：中国真空学会薄膜专业委员会
出版日期：201708
学会名称：中国真空学会薄膜专业委员会
语 种：中文
摘 要：哈氏合金(Hastelloy C276)是一种镍-铬-钼固溶体合金,该合金硬度、强度高、延展性好,且耐腐蚀性能优异,耐点蚀性能强,是目前最耐腐蚀的合金之一。磁控溅射镀膜制备的哈氏合金薄膜质量高,与基体结合力好,且抗蚀性能优良,可应用于化学工业、石油工业、烟气脱硫、纸浆和造纸、环保等工业领域。以硅片为基体,采用磁控溅射镀膜方法,制备了耐腐蚀的哈氏合金薄膜。研究了等温条件下不同功率的哈氏合金薄膜表面形
关 键 词：哈氏合金 磁控溅射 SEM XPS
分 类 号：TB383.2[材料类]
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