文献类型：期刊文章

作　　者：魏钦平[1] 鲁韧强[1] 张显川[2] 王小伟[1] 高照全[1] 刘军[1]

机构地区：[1]北京市农林科学院林业果树研究所,北京100093 [2]北京昌平日川果树研究中心,北京102200

出　　处：《园艺学报》

基　　金：北京市科委资助项目 (H0 12 0 10 45 0 119)

年　　份：2004

卷　　号：31

期　　号：3

起止页码：291-296

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAB、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：系统研究了富士苹果高干开心形和不同方法改良的高干开心形树冠内相对光照强度分布的差异、果实产量分布特征及树冠不同部位光照分布与果实品质因素的关系。结果表明 ,高干开心形树冠大于 30 %的相对光照强度比例大 ,且各层分布均匀一致 ,呈平行排列 ;高干开心形、两种不同方法改良的高干开心形和小冠疏层形小于 30 %的相对光照体积所占树冠总体积分别为 2 3 33%、 2 5 95 %、 32 86 %、 4 0 2 4 % ;产量分别为 4 7 4、 4 6 6、 4 4 9、 39 5t/hm2 ;高干开心树形比小冠疏层形低光区少 17% ,产量提高 2 0 % ,果皮着色、可溶性固形物、可溶性糖、果形指数、糖酸比等均高于小冠疏层形。建立了品质因素与相对光照强度关系的回归方程 ,求出了富士苹果优质生产的最适相对光照强度范围为 4 0 %～ 80 %

关 键 词：苹果 树形 相对光照强度 产量  品质  

分 类 号：S661.1]