期刊文章详细信息
镍-碳化钨复合电沉积过程的研究
A Study on Composite Electrodeposition Proscess of WC with Ni
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]天津大学应用化学系,300072 [2]上海技术师范学院应用化学系
基 金：国家自然科学基金
年 份：1993
卷 号：26
期 号：7
起止页码：4-7
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：研究了耐磨性Ni-WC复合镀层的共沉积过程,讨论了镀液中WC微粒的悬浮量、电镀时的温度、阴极电流密度及镀液的pH值对复合镀层中WC共沉积量的影响。结果表明,选择适当的共沉积参数,可制备出WC微粒弥散均匀的耐磨复合镀层;Ni-WC共沉积机理符合Guglielmi两步吸附模型.其速度控制步骤为强吸附步骤。
关 键 词：耐磨性 电沉积 镀镍 碳化钨 电镀
分 类 号：TG153.12]
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