期刊文章详细信息
纳米硅薄膜的研制
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]南京大学物理系,南京210008 [2]南京大学固体微结构实验室,南京210008
基 金：国家自然科学基金
年 份：1992
卷 号：23
期 号：9
起止页码：995-1001
语 种：中文
收录情况：CSCD、CSCD2011_2012、ZMATH、普通刊
摘 要：使用大量氢稀释硅烷,严格控制PECVD系统中的工艺参数,分别沉积出a-Si:H,nc-Si:H 以及μc-Si:H薄膜.使用HREM,Raman及X射线谱,探讨了nc-Si:H膜的结构特征.结果表明,它已符合国际上对于固体纳米材料的认识.由于结构上的新颖性,使它具有一系列鲜为人知的物性.
关 键 词：纳米硅 非晶硅 微晶硅 薄膜 硅
分 类 号：O484.1]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
