期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]兰州大学磁性材料研究所,兰州730000
年 份:2004
卷 号:53
期 号:5
起止页码:1510-1515
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000221226100044)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要:用射频磁控溅射制备了Fe_Ni薄膜 ,研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响 .通过选择适当的溅射条件和热处理温度 ,可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的Fe_Ni软磁薄膜 .
关 键 词:铁-镍合金薄膜 磁头材料 磁性存储材料 结构分析 磁学性质
分 类 号:O484.4]
参考文献:
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