期刊文章详细信息
全息离子束刻蚀衍射光栅
Holographic ion beam etched diffraction gratings
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]同济大学物理系,上海200092 [2]中国科学技术大学,国家同步辐射实验室合肥230029
基 金：国家高技术研究发展计划 (批准号 :80 4-9-2 );中国科学院二期创新资助项目
年 份：2004
卷 号：33
期 号：5
起止页码：340-344
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：全息离子束刻蚀衍射光栅集中了机械刻划光栅的高效率和全息光栅的无鬼线、低杂散光、高信噪比的优点 .全息离子束刻蚀已作为常规工艺手段应用于真空紫外及软X射线衍射光栅的制作 .文章对全息离子束刻蚀衍射光栅的制作方法、主要类型。
关 键 词：衍射光栅 全息光刻 离子束刻蚀 全息光学 全息光栅 光栅制作
分 类 号：O439]
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