文献类型：期刊文章

作　　者：孔祥东[1] 张玉林[1] 宋会英[1]

机构地区：[1]山东大学控制科学与工程学院电子束研究所,山东济南250061

出　　处：《微纳电子技术》

基　　金：山东省高科技发展基金资助项目(022090105);山东省教育厅科技计划项目(03B53)

年　　份：2004

卷　　号：41

期　　号：5

起止页码：13-18

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：介绍了LIGA(lithographie,galvanoformungandabformung)技术以及在此基础上开发出来的准LIGA(like－LIGA)技术、SLIGA(sacrificialLIGA)、M2LIGA(movingmaskLIGA)技术和抗蚀剂回流LIGA(PRLIGA———photoresistreflowLIGA)技术等。利用这一系列LIGA技术,可以生成具有高深宽比的复杂微结构,如微尖阵列、球形曲面、活动部件等,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出了目前这些方法存在的缺陷。

关 键 词：LIGA工艺  光刻胶 X射线 曝光  微机电系统

分 类 号：TN305.7]