文献类型：期刊文章

作　　者：赵程[1]

机构地区：[1]青岛科技大学等离子体表面技术研究所,山东青岛266042

出　　处：《金属热处理》

年　　份：2004

卷　　号：29

期　　号：3

起止页码：1-4

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在真空室内放置一个钢制网状圆筒 ,并与直流高压电的负极相接 ,在直流电场的作用下 ,通过气体离子对圆筒的轰击溅射 ,产生了一些纳米数量级的活性粒子 ,利用这些高活性的纳米粒子簇可以对放置在圆筒内的钢件表面进行渗氮处理。试验证明 ,这些活性粒子是中性的Fe4 N粒子 ,被处理的工件既可以处于悬浮电位 ,也可以接地。活性屏离子渗氮可以获得和直流离子渗氮同样的处理效果 ,并解决了直流离子渗氮技术多年来一直存在的许多难以克服的问题。

关 键 词：活性屏离子渗氮 直流离子渗氮  纳米粒子簇  

分 类 号：TG156.8]