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用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积法在玻璃上镀膜
Preparation of Silicon Thin Films on Glass Surface Using Microwave ECR Plasma Source Enhanced Magnetron Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所,辽宁大连116034 [2]大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,辽宁大连116024
年 份：2004
卷 号：32
期 号：2
起止页码：34-37
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、核心刊
摘 要：利用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积技术在玻璃表面制备了硅膜。研究了所得硅膜的表面形貌、附着力和化学稳定性及其红外-可见光谱特性。结果表明此法制备的硅膜均匀性好,附着力及化学稳定性高,对近红外波段有较低的透过率和较高的反射率。
关 键 词：玻璃 镀膜 硅膜 磁控溅射 微波 等离子体
分 类 号：TQ171.731]
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