期刊文章详细信息
光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展
Advances in reactive magnetron sputtering (RMS) applied on optical coating
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]北京电影机械研究所,北京100026
年 份：2004
卷 号：26
期 号：2
起止页码：109-114
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：光学薄膜领域应用反应磁控溅射技术已有多年,反应磁控溅射对提高薄膜质量及降低工艺成本的作用,已受到业界的重视,正在进入工业生产之中。对光学薄膜领域中反应磁控溅射技术中的相关问题进行了评述,提出了一种可能的方案。
关 键 词：反应磁控溅射 光学薄膜 滤光片 镀膜 RMS
分 类 号：TB851.7] O484.41]
参考文献：
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