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陶瓷溅射靶材的发展与应用
The Development and Application of Sputtering Ceramic Target Materials
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]上海大学电子信息材料系,上海201800 [2]中国科学院上海硅酸盐研究所,上海200050
年 份：2004
卷 号：38
期 号：1
起止页码：43-47
语 种：中文
收录情况：CAS、普通刊
摘 要：在信息产业不少基础产品的制造过程中需使用多种陶瓷溅射靶材,世界陶瓷靶材的市场销售规模日益扩大。本文简要介绍了陶瓷靶材的应用分类、性能要求、制备工艺及溅射靶材制造中急需解决的主要技术问题。
关 键 词：陶瓷溅射靶材 电子材料 分类 性能要求 制备
分 类 号：TQ174.1]
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