文献类型：期刊文章

作　　者：李伙全[1] 宁兆元[1] 程珊华[1] 江美福[1]

机构地区：[1]苏州大学物理科学与技术学院薄膜材料江苏省重点实验室,苏州215006

出　　处：《物理学报》

年　　份：2004

卷　　号：53

期　　号：3

起止页码：867-870

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000220367400040)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：利用射频磁控溅射法在n型单晶硅衬底上制备了ZnO薄膜 .通过改变源气体中氩气和氧气的流量比制备了具有不同化学计量比的ZnO薄膜 ,并且将它们在真空中作了加热后处理来研究ZnO薄膜的光致发光特性 .这些在常温衬底上沉积的薄膜可发出强的蓝光 ,其峰位会随氧流量的减少而发生红移 .

关 键 词：氧化锌薄膜 射频磁控溅射沉积  光致发光  退火处理  蓝光发射 禁带宽度 光谱红移  

分 类 号：O484.4]