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期刊文章详细信息

高厚度化合物层的离子氮碳共渗处理    

High Thickness of Compound Layer in Plasma Nitrocarburising

  

文献类型:期刊文章

作  者:孙定国[1] 赵程[1] 韩莉[2]

机构地区:[1]青岛科技大学表面技术研究所,山东青岛266042 [2]海军航空工程学院青岛分院机械基础教研室,山东青岛266042

出  处:《金属热处理》

年  份:2004

卷  号:29

期  号:2

起止页码:37-39

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:研究了如何在离子氮碳共渗过程中提高化合物层的厚度 ,同时对化合物层的微观组织结构和显微硬度进行了分析。结果表明 ,在离子氮碳共渗过程中 ,气氛中少量的碳能促进ε相的生成 ,有利于提高化合物层厚度 ;过量的碳会抑制ε相的生成 ,反而降低化合物层厚度。

关 键 词:离子氮碳共渗 化合物层 厚度

分 类 号:TG156.8]

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同被引文献:

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