文献类型：期刊文章

作　　者：左霞[1] 韦永德[1] 吴谊群[2]

机构地区：[1]哈尔滨工业大学应用化学系,哈尔滨150001 [2]黑龙江大学功能材料实验室,哈尔滨150080

出　　处：《化学进展》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No .2 0 14 10 0 1)

年　　份：2004

卷　　号：16

期　　号：1

起止页码：68-76

语　　种：中文

收录情况：CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000188826100011)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：酞菁配合物是一类重要的光电功能材料。由于它的特殊结构使其成为高灵敏度高选择性气敏材料 ,具有极好的应用前景。本文在介绍酞菁配合物的结构特点、合成方法、气敏特性及其最新研究进展的基础上 ,讨论了酞菁配合物的气敏机理及膜结构、中心金属和取代基对气敏性的影响 。

关 键 词：气敏材料 金属酞菁配合物 结构  合成  作用机理  薄膜特性  

分 类 号：TB381[材料类] O641.4]