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二氧化硅薄膜的制备及应用
PREPARATION AND APPLICATION OF SiO_2 THIN FILMS
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]兰州大学,甘肃兰州730000 [2]兰州物理研究所,甘肃兰州730000
年 份：2003
卷 号：9
期 号：4
起止页码：228-233
语 种：中文
收录情况：ZGKJHX、普通刊
摘 要：二氧化硅薄膜具有良好的硬度、光学、介电性质及耐磨、抗蚀等特性,在光学、微电子等领域有着广泛的应用前景,是目前国际上广泛关注的功能材料。论述了有关二氧化硅薄膜的制备方法,相应性质及其应用前景。
关 键 词：二氧化硅薄膜 制备方法 功能材料 物理气相沉积 化学气相沉积 氧化法 溶胶凝胶法 液相沉积法
分 类 号：TB34[材料类]
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