文献类型：期刊文章

作　　者：於海武[1] 郑万国[1] 唐军[1] 王成程[1] 刘勇[1] 贺少勃[1] 魏晓峰[1] 张小民[1]

机构地区：[1]中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理国家重点实验室,四川绵阳621900

出　　处：《强激光与粒子束》

基　　金：国家 8 6 3惯性约束聚变领域资助课题!(86 3-4 16 -2 -1.3)

年　　份：2001

卷　　号：13

期　　号：3

起止页码：272-276

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2001496755298)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在氙灯放电泵浦过程中 ,放大器片腔内材料在高强度氙灯光辐照下 ,存在显著的热解过程 ,产生大量的微米级悬浮粒子。在两种实验条件下对粒子数进行了测量 :一是放大器氙灯泵浦结束之后悬浮粒子的自然消散过程 ;二是氙灯泵浦结束之后利用大气流量的超纯氮气冲洗片腔之后的粒子数测量。研究结果表明 ,正常情况下 ,氙灯泵浦结束后片腔洁净度达到了 1 0～ 50万级气溶胶的水平 (在粒子直径≥ 0 .5μm的水平上 )。

关 键 词：高功率激光放大器 洁净度 气溶胶 光学表面损伤  

分 类 号：TN248]