期刊文章详细信息
埋点靶中CH薄膜的制备工艺研究 ( EI收录)
Study on the fabrication technology of the CH film in microspot targets
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理国家重点实验室,四川绵阳621900
基 金：国防科技基础科研基金资助课题
年 份：2001
卷 号：13
期 号：1
起止页码：68-71
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2001456722782)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：ＣＨ薄膜的制备是埋点靶制备的关键技术之一，主要研究了钨丝辅助裂解制备ＣＨ薄膜的制备工艺。研究表明蒸发舟温度和衬底温度对沉积速率影响较大，而衬底距离对沉积速率影响较小；红外光谱和质谱分析表明薄膜的主要成分是聚对二甲苯。
关 键 词：CH薄膜 沉积速率 埋点靶
分 类 号：TL639.11]
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