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期刊文章详细信息

Cl^--BSP-RPE添加剂存在下Cu在铜电极上的电沉积  ( EI收录)  

Electrodeposition of Cu on copper electrode in presence of additive Cl^--BSP-RPE

  

文献类型:期刊文章

作  者:丁辛城[1] 张震[1]

机构地区:[1]华南理工大学化学与化工学院广东省燃料电池技术重点实验室,广州510640

出  处:《中国有色金属学报》

基  金:广东省重大科技专项项目(2011A080402004;2010B080703034);广东省产学研合作特派员工作站项目(2012B090900009)

年  份:2015

卷  号:25

期  号:3

起止页码:815-823

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2014、CAS、CSCD、CSCD2015_2016、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用线性电势扫描、循环伏安和计时电流研究50℃下Cl-、BSP、RPE单独存在或同时存在时,在含320 g/L CuSO4·5H2O、110 g/L H2SO4溶液中,Cu在铜电极上的电沉积过程,并通过SEM和XRD表征无添加剂和添加30 mg/L Cl-+5 mg/L BSP+5 mg/L RPE后得到的铜箔的形貌和结构。结果表明:Cl-、BSP在Cu的电沉积过程中起着去极化作用,RPE随着浓度的增大极化作用逐渐增强;BSP使成核数密度增大,但同时会降低铜离子的扩散系数,添加30 mg/L Cl-+5 mg/L BSP+5 mg/L RPE会增大表观传递系数和扩散系数,加快Cu的电沉积过程;在Cl-、RPE以及30 mg/L Cl-+5 mg/L BSP+5 mg/L RPE作用下,Cu的电沉积都是在开始时接近瞬时成核,随着时间延长,向连续成核靠近,最终偏离理论模型;而在BSP作用下,始终接近瞬时成核理论。添加30 mg/L Cl-+5mg/L BSP+5 mg/L RPE可以在50℃高浓度酸铜溶液中快速电沉积得到光亮平整的电解铜箔,铜镀层呈现(111)晶面较大择优取向。

关 键 词:电解铜箔 聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段化合物  电沉积 添加剂 扩散系数  

分 类 号:TQ153.1] O646.54]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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