期刊文章详细信息
溅射羟基磷灰石薄膜与钛合金基体结合强度的研究
Study on Bonding Strength between Sputtering Hydroxyapatie Film and Tiatnium Alloy
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]天津理工学院材料系,300191
基 金：天津市自然科学基金 ( 0 2 36 15 311);天津市高等学校科技发展基金 ( 0 1- 2 0 2 15 )
年 份：2004
期 号：1
起止页码：35-36
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2000、ZGKJHX、核心刊
摘 要：采用射频磁控溅射法 ,在 Ti- 6Al- 4V合金基体上制备了羟基磷灰石 ( HA)及 HA和Ti O2 复合薄膜。通过显微压入法及粘结拉伸法 ,定量及定性分析了涂层与基体之间的结合强度 ,重点探讨了涂层在热处理前后结合强度的变化规律。结果表明 ,几种材料膜 -基结合强度均达到 1 5～ 2 0 MPa。
关 键 词：羟基磷灰石薄膜 水蒸气处理 结合强度 钛合金 射频磁控溅射
分 类 号：R318.08[生物医学工程类]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
