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期刊文章详细信息

双π型RF EMIF的一种薄膜集成制造方法    

A noval fabrication method of double-p-typed RF EMIF in thin-film IC technology

  

文献类型:期刊文章

作  者:张海鹏[1] 秦会斌[1] 徐振宇[1] 梁海珊[1]

机构地区:[1]杭州电子工业学院电子信息学院CAE研究所,浙江杭州310037

出  处:《半导体技术》

基  金:国家自然科学基金资助项目(60171033);院科研启动基金资助(ZX0202Y37)

年  份:2004

卷  号:29

期  号:2

起止页码:31-34

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:基于双π型电磁干扰滤波器(EMIF)的电路结构,借鉴了集成电路超微细加工技术,提出了与等平面超大规模集成电路工艺完全兼容的双p型EMIF电路的薄膜集成制造方法。该方法可用于制作满足未来电子系统的高频化、小型化、轻型化和片式化信号处理EMIF电路的应用需求,改善双p型EMIF电路的信号处理性能,还可将其与VLSI一起片上集成。

关 键 词:双π型RF  EMIF 薄膜集成制造法  电磁干扰滤波器 电路结构 超微细加工技术  

分 类 号:TN713] TN405

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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