期刊文章详细信息
双π型RF EMIF的一种薄膜集成制造方法
A noval fabrication method of double-p-typed RF EMIF in thin-film IC technology
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]杭州电子工业学院电子信息学院CAE研究所,浙江杭州310037
基 金:国家自然科学基金资助项目(60171033);院科研启动基金资助(ZX0202Y37)
年 份:2004
卷 号:29
期 号:2
起止页码:31-34
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:基于双π型电磁干扰滤波器(EMIF)的电路结构,借鉴了集成电路超微细加工技术,提出了与等平面超大规模集成电路工艺完全兼容的双p型EMIF电路的薄膜集成制造方法。该方法可用于制作满足未来电子系统的高频化、小型化、轻型化和片式化信号处理EMIF电路的应用需求,改善双p型EMIF电路的信号处理性能,还可将其与VLSI一起片上集成。
关 键 词:双π型RF EMIF 薄膜集成制造法 电磁干扰滤波器 电路结构 超微细加工技术
分 类 号:TN713] TN405
参考文献:
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引证文献:
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