期刊文章详细信息
接近式光刻的计算机模拟研究
Study on computer simulation of proximity lithography
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽合肥230029 [2]复旦大学同步辐射研究中心,上海200433
基 金：国家重点基础研究发展规划 (G19990 3 3 10 9)"973"资助项目
年 份：2003
卷 号：40
期 号：7
起止页码：181-185
语 种：中文
收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源 ,并根据光的标量衍射理论 ,对菲涅耳近似模型进行了修正 ,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型 ;
关 键 词：接近式光刻 计算机模拟 菲涅耳衍射 微机电系统 接触式光刻 离散化模型
分 类 号：TN305.7]
参考文献：
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