期刊文章详细信息
现代微电子技术及其发展综述
Probe into morden microelectronic technology and its development
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]天津职业技术师范学院电子工程系,天津300222
基 金：教育部科学技术研究重点项目(02012)
年 份：2003
卷 号：13
期 号：4
起止页码：35-37
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：介绍了当前超大规模集成电路技术的发展现状及几种主要生产工艺,如化学机械抛光、离子注入、物理气相沉积、化学气相沉积、刻蚀等,并对今后使ULSI特征尺寸从0.13μm进一步减小的研究方向以及材料的选择等方面进行了探讨。
关 键 词：微电子技术 化学机械抛光 快速热处理 低电阻率
分 类 号：TN47]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
