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期刊文章详细信息

脉冲激光沉积法制备氧化铋薄膜及其电化学性质研究    

Electrochemical Properties of Bismuth Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition

  

文献类型:期刊文章

作  者:储艳秋[1] 付正文[1] 应丽[1] 郑企克[1] 秦启宗[1]

机构地区:[1]复旦大学化学系激光化学研究所,上海200433

出  处:《复旦学报(自然科学版)》

基  金:国家自然科学基金资助项目(200083001;20203006)

年  份:2003

卷  号:42

期  号:6

起止页码:956-960

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、BIOSISPREVIEWS、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、MR、RCCSE、RSC、ZGKJHX、ZMATH、ZR、核心刊

摘  要:首次采用355nm脉冲激光沉积在不锈钢基片上制备了氧化铋薄膜.X 射线衍射(XRD)测试表明在基片温度为300℃,沉积时间为0.5h制备得到的Bi2O3薄膜具有四方结构,SEM和Raman光谱测定对该Bi2O3薄膜的表面形貌和锂化前后的结构进行了表征,结果表明薄膜由小于100nm针状晶粒组成,锂化后的产物可能是LixBi2O3.此外,由电位阶跃法测定了上述Bi2O3薄膜电极的锂离子扩散系数.电化学测定表明,上述Bi2O3薄膜具有充放电循环性能.在电压范围为0.70~3.5V,该氧化铋薄膜在充放电速率为2C时的比容量大约为100mAh/g,并且保持经100次以上充放电循环而没有明显的衰减.

关 键 词:脉冲激光沉积 氧化铋 阴极薄膜  电化学性质 锂离子电池 制备  

分 类 号:TN304.055] O614.532]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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