期刊文章详细信息
脉冲激光沉积法制备氧化铋薄膜及其电化学性质研究
Electrochemical Properties of Bismuth Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]复旦大学化学系激光化学研究所,上海200433
基 金:国家自然科学基金资助项目(200083001;20203006)
年 份:2003
卷 号:42
期 号:6
起止页码:956-960
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、BIOSISPREVIEWS、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、MR、RCCSE、RSC、ZGKJHX、ZMATH、ZR、核心刊
摘 要:首次采用355nm脉冲激光沉积在不锈钢基片上制备了氧化铋薄膜.X 射线衍射(XRD)测试表明在基片温度为300℃,沉积时间为0.5h制备得到的Bi2O3薄膜具有四方结构,SEM和Raman光谱测定对该Bi2O3薄膜的表面形貌和锂化前后的结构进行了表征,结果表明薄膜由小于100nm针状晶粒组成,锂化后的产物可能是LixBi2O3.此外,由电位阶跃法测定了上述Bi2O3薄膜电极的锂离子扩散系数.电化学测定表明,上述Bi2O3薄膜具有充放电循环性能.在电压范围为0.70~3.5V,该氧化铋薄膜在充放电速率为2C时的比容量大约为100mAh/g,并且保持经100次以上充放电循环而没有明显的衰减.
关 键 词:脉冲激光沉积 氧化铋 阴极薄膜 电化学性质 锂离子电池 制备
分 类 号:TN304.055] O614.532]
参考文献:
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