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期刊文章详细信息

溶胶-凝胶法制备纳米多孔SiO_2薄膜  ( EI收录 SCI收录)  

Deposition of nanoporous silica thin films by sol-gel

  

文献类型:期刊文章

作  者:何志巍[1] 甄聪棉[1] 兰伟[1] 王印月[1]

机构地区:[1]兰州大学物理系,兰州730000

出  处:《物理学报》

基  金:国家自然科学基金 (批准号 :5 0 2 72 0 2 7)资助的课题~~

年  份:2003

卷  号:52

期  号:12

起止页码:3130-3134

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000187556200034)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000187556200034)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:以正硅酸乙酯 (TEOS)为原料 ,采用旋转涂敷的方法 ,结合溶胶 凝胶技术在硅衬底上制备超低介电常数多孔SiO2 薄膜 采用两种不同的改性方法对薄膜表面进行改性 ,傅里叶变换红外光谱分析发现改性后薄膜中含有大量的—CH3键 ,从而减少了孔洞塌陷 .用扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌 ,发现薄膜内孔洞尺寸在 70— 80nm之间 调节溶胶pH值 ,发现pH值越小凝胶时间越长 对改性样品热处理的结果表明 ,在 30 0℃时介电常数最低达2 0 5 .

关 键 词:溶胶-凝胶法  纳米多孔材料 二氧化硅薄膜 介电常数  傅里叶变换  红外光谱分析 正硅酸乙酯

分 类 号:O484.1] TB383[物理学类]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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