期刊文章详细信息
N-S多层薄膜结构的超导临界温度讨论 ( EI收录)
DISCUSSION ON THE SUPERCONDUCTING CRITICAL TEMPERATURE IN A N-S MULTI-FILM STRUCTURE
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]南京大学固体物理研究所 [2]南京工学院理化系
年 份：1984
卷 号：35
期 号：7
起止页码：967-974
语 种：中文
收录情况：CAS、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、普通刊
摘 要：本文推广了McMillan隧道模型,并应用于厚度小于超导相干长度的超导和正常膜组成的N-S多层薄膜结构。计算了它的序参量和超导临界温度。由于界面区域电声子作用的修正以及不同原子的掺杂所引起的T_c增强的可能性也作了讨论。
关 键 词：互作用 电声子耦合 N-S 杂质原子 声子 准粒子 杂质浓度 超导临界温度 超导转变温度 多层薄膜结构 哈密顿量 多层结构 隧道模型 液体理论 序参量 平均自由程
分 类 号：F2]
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