文献类型：期刊文章

作　　者：王洪昌[1] 王占山[1] 秦树基[1] 李佛生[1] 陈玲燕[1] 朱杰[2] 崔明启[2]

机构地区：[1]同济大学精密光学工程技术研究所,物理系上海200092 [2]中国科学院高能物理研究所,北京100039

出　　处：《光学学报》

基　　金：国家自然科学基金 (6 0 1780 2 1);上海市科技攻关项目(0 2 2 2 6 10 4 9)资助课题

年　　份：2003

卷　　号：23

期　　号：11

起止页码：1362-1365

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2004148103102)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素 ,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率 ,因此 ,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域 ,采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度 ,利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo/Si多层膜的反射率曲线进行拟合 ,得到了非常好的拟合结果 ,从而确定了多层膜结构参量 ,同时分析了多层膜周期厚度 ,厚度比率 ,界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响 ,这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。

关 键 词：薄膜光学 软X射线 界面缺陷  参量估算  反射率拟合  钼/硅多层膜  标量散射理论  界面散射  光谱分辨率

分 类 号：O484.41] O434.1[物理学类]