期刊文章详细信息
脉冲激光沉积薄膜技术研究新进展
Study on pulsed laser deposition technology
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉430074
年 份：2003
卷 号：27
期 号：5
起止页码：453-456
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广、最有希望的制膜技术。陈述了其原理、特点、研究方法 ,总结了超快脉冲激光、脉冲激光真空弧。
关 键 词：超快脉冲激光沉积 双光束脉冲激光沉积 脉冲激光真空弧薄膜制备 薄膜技术
分 类 号：O484.1]
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