文献类型：期刊文章

作　　者：廖复疆[1]

机构地区：[1]北京真空电子技术研究所,北京100016

出　　处：《电子学报》

年　　份：2003

卷　　号：31

期　　号：9

起止页码：1361-1364

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：微加工技术为真空电子技术的发展提供了新的领域和新的应用 .场致发射阵列阴极 (FEA)是最突出的代表 .本文综述了FEA近年来的发展 ,特别给出了我所在FEA研究方面的新进展 .已经获得 5A/cm2 左右的电流密度 ,为进一步的应用奠定了良好的基础 .国际上正在开展微型真空电子器件研究 ,该项研究将导致微波管体积、重量、成本的降低和工作频率、可靠性的进一步提高 .微型真空电子器件可为太赫兹频域提供 1W的大功率发射源 .

关 键 词：微加工 真空微电子 太赫兹技术  

分 类 号：TN12]