期刊文章详细信息
半导体IC清洗技术
Semi-conductor IC cleaning technology
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京101601
年 份：2003
卷 号：28
期 号：9
起止页码：44-47
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。
关 键 词：半导体 IC 清洗技术 湿法清洗 RCA清洗 稀释化学法 IMEC清洗法 单晶片清洗 干法清洗
分 类 号：TN305.97]
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