文献类型：期刊文章

作　　者：朱向冰[1] 付绍军[1] 叶为全[1] 何世平[2] 刘颖[1] 徐向东[1] 洪义麟[1]

机构地区：[1]中国科学技术大学国家同步辐射实验室 [2]中国科学技术大学工程科学学院,安徽合肥230027

出　　处：《光学精密工程》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(No.10272098)

年　　份：2003

卷　　号：11

期　　号：4

起止页码：354-358

语　　种：中文

收录情况：AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：对消像差光栅进行了理论和实验研究。用光程函数和费马原理研究光栅的成像,用刻槽分布函数表示光栅的刻槽曲率及间距变化。对成像的理论分析表明光栅刻槽分布函数比刻槽间距更容易表达像差,给出了消像差光栅的表达形式。比较了SD、WFA、LPF等光栅的参数优化方法。探讨了消像差光栅密度的干涉测量法,设计了光路,对光栅密度进行了测量。

关 键 词：消像差光栅  光程函数  费马原理 刻槽分布函数  成像 像差 实验研究  

分 类 号：TH741.6] O436[仪器类]