文献类型：期刊文章

作　　者：赵明[1] 苏卫锋[1] 赵利[1]

机构地区：[1]复旦大学物理系应用表面物理国家重点实验室,上海200433

出　　处：《物理》

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 :60 0 760 2 5 );上海市科技发展基金(批准号 :0 1JC14 0 10 )资助项目

年　　份：2003

卷　　号：32

期　　号：7

起止页码：455-457

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在SF6气体氛围内用飞秒激光照射硅表面 ,可在硅表面产生准规则排列的微米量级尖峰结构 ,形成“黑硅”新材料 .初步研究表明 ,这种“黑硅”新材料对波长为 2 5 0— 2 5 0 0nm的光波有大于 90 %的吸收 ,同时它还具有相当好的场致发射特性 .由于具有这些奇特的光电性质 ,这种表面微构造的硅材料在光电探测器、太阳能电池、平板显示器等器件制造领域有着重要的潜在应用价值 .

关 键 词：表面微构造  硅材料 光电功能材料 飞秒激光 场致发射特性  光电性质

分 类 号：O472.4]