文献类型：期刊文章

作　　者：田学红[1] 刘刚[1] 田扬超[1] 张新夷[2] 张鹏[1]

机构地区：[1]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230029 [2]复旦大学同步辐射研究中心,上海200433

出　　处：《微细加工技术》

基　　金：国家重点基础研究发展规划(973)资助项目(G1999033109)

年　　份：2003

期　　号：2

起止页码：43-48

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：在接近式光刻中,衬底上的光强分布主要是受掩模与衬底间的间隙引起的衍射影响。一般的模拟分析中,都是利用菲涅尔近似模型进行分析。根据光的标量衍射理论,分析了菲涅尔近似模拟的误差起源,并对菲涅耳近似模型进行了修正,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型,对这两种模型的模拟结果进行了比较。结果表明,即使在比较接近掩模表面或非傍轴条件下,类菲涅尔近似模型也能够得到比较精确的模拟结果。

关 键 词：接近式光刻 计算机模拟 标量衍射理论 菲涅尔近似模型  类菲涅耳近似模型  

分 类 号：TN305.7] TP391.9]