期刊文章详细信息
pH值对聚四氨基酞菁铜膜电化学性质的影响
Effect of pH on electrochemistrical properties of poly copper tetraaminophthalocyanine film
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]佳木斯造纸股份有限公司,黑龙江佳木斯154002 [2]佳木斯大学化学与药学院,黑龙江佳木斯154002
年 份：2003
卷 号：26
期 号：3
起止页码：20-20
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：目的 :研究了 p H值对聚四氨基酞菁铜 (p- Cu TAPc)膜电化学性质的影响。方法 :用循环伏安法在玻碳电极上制备了 p- Cu TAPc膜 ,并用循环伏安法对其在不同酸度下的氧化还原性质进行研究。结果 :发现其氧化还原电位与 p H值存在线性关系 ,斜率为 - 2 8m V/p H。结论 :质子和氢氧根离子参与了氧化还原反应。
关 键 词：四氨基酞菁铜 电聚合 PH值 循环伏安
分 类 号：O621.259.2]
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