文献类型：期刊文章

作　　者：熊祖洪[1] 史华忠[1] 樊永良[1] 张松涛[1] 詹义强[1] 何钧[1] 钟高余[1] 徐少辉[1] 柳毅[1] 王晓军[1] 王子君[1] 丁训民[1] 黄维[2] 侯晓远[3]

机构地区：[1]复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海200433 [2]复旦大学先进材料与技术研究院和高分子科学系,上海200433 [3]复旦大学应用表面物理国家重点实验室和先进材料与技术研究院,上海200433

出　　处：《物理学报》

基　　金：国家自然科学基金 (批准号 :699760 10 );上海市科委重点科技项目 (批准号 :99JC14 0 0 7);上海市博士后基金资助的课题~~

年　　份：2003

卷　　号：52

期　　号：5

起止页码：1222-1229

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号：WOS:000182833100035)、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000182833100035)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：报道了硅基有机微腔的电致发光 (EL) .该微腔由上半透明金属膜、中心有源多层膜和多孔硅分布Bragg反射镜(PS DBR)组成 .半透明金属膜由Ag( 2 0nm)构成 ,充当发光器件的负电极和微腔的上反射镜 .有源多层膜由Al ( 1nm) LiF( 0 5nm) Alq3 Alq3:DCJTB NPB CuPc ITO SiO2 组成 ,其中的Al LiF为电子注入层 ,ITO为正电极 ,SiO2 为使正、负电极电隔离的介质层 .该PS DBR是采用设备简单、成本低廉且非常省时的电化学腐蚀法用单晶Si来制备的 ;该PS DBR的反射谱的高反射区 (阻止带 )宽 160nm且其反射率可达 99% .此硅基有机多层膜的反射谱图中出现了标志此结构为微腔的共振腔膜 .被测样品EL谱的半高宽可由无微腔的 70nm窄化为有微腔时的 12nm ,且为单峰发射 ,非共振模得到有效抑制 ;与非微腔器件相比 ,该微腔在谐振波长处EL的强度增强了 4倍 ;对微腔器件的电流 -亮度 -电压特性以及影响器件寿命的因素也进行了讨论 .

关 键 词：硅基有机微腔  电致发光 电化学腐蚀 色纯性  有机光发射器件  有机光发射显示器  

分 类 号：TN383.1] TN873.3