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期刊文章详细信息

离子束辅助沉积Al_2O_3薄膜的微观状态及其物理特性研究    

Microstructures and Physical Properties of Al_2O_3 FilmsSynthesized by lon Beam Assisted Deposition

  

文献类型:期刊文章

作  者:张庆瑜[1] 赵文军[1] 王平生[1] 王亮[2] 徐久军[2] 朱剑豪[3]

机构地区:[1]大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连116024 [2]大连海事大学材料工艺研究所,大连116024 [3]香港城市大学物理与材料科学系等离子体实验室

出  处:《真空科学与技术》

基  金:国家自然科学基金资助项目 (No 698780 0 2 )

年  份:2003

卷  号:23

期  号:2

起止页码:123-128

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CSCD、CSCD_E2011_2012、核心刊

摘  要:本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段 ,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2 O3 薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化 ,并对Al2 O3 薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度等物理特性及其随沉积温度的变化进行了详细研究。研究发现 :用离子束辅助沉积制备的薄膜基本满足Al2 O3 的标准成分配比 ;在沉积温度低于 5 0 0℃制备的Al2 O3 薄膜以非晶Al2 O3 相a Al2 O3 为主 ;Al2 O3 薄膜的表面粗糙度、折射率、显微硬度随沉积温度的增加而增加 ;当沉积温度高于 2 0 0℃时 ,薄膜与基体间的膜基结合强度将随沉积温度的增加而下降。分析表明 :薄膜表面形貌与晶体内部的结构相变有关 ,薄膜的退火相变途径为a Al2 O380 0℃ γ Al2 O310 0 0℃ γ Al2 O3 +α Al2 O312 0 0℃ α Al2 O3 。

关 键 词:离子束辅助沉积 A12O3薄膜  微观结构 表面形貌 物理特性 氧化铝薄膜

分 类 号:O484]

参考文献:

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同被引文献:

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