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期刊文章详细信息

端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究    

Studies of Properties of New End-Hall Ion Source and Its Ion Beam Characteristics

  

文献类型:期刊文章

作  者:潘永强[1] 朱昌[1] 陈智利[1] 杭凌侠[1]

机构地区:[1]西安工业学院光电科学与工程系,西安710032

出  处:《真空科学与技术》

年  份:2003

卷  号:23

期  号:1

起止页码:57-60

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2000、CSCD、CSCD_E2011_2012、核心刊

摘  要:研制了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔等离子体离子源 ,论述了该源的工作原理以及伏安特性。着重研究了用五栅网探针测试该源所发射的离子能量的原理和方法 ,并对测量结果进行了分析、比较。

关 键 词:离子束辅助沉积 光学薄膜 端部霍尔等离子体  离子源 工作原理  束流密度  

分 类 号:TB43] O53]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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