期刊文章详细信息
化学气相沉积TiO_2薄膜的XPS研究
X-ray Photoelectron Spectroscopy of TiO_2 Thin Films by Chemical Vapor Deposition
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]重庆大学数理学院应用物理系,重庆400044
年 份：2003
卷 号：23
期 号：1
起止页码：35-37
语 种：中文
收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：通过 XPS分析了 Ti O2 薄膜的结构。薄膜是通过化学气相沉积的方法生长 ,有机源遇热发生分解 ,沉积在硅衬底上形成 Ti O2 薄膜。 XPS分析表明 :所得 Ti O2 薄膜含有 Ti、 C、 O、Al、Si元素。各元素的电子结合能与理论值并无太大的偏移 ,说明通过化学气相沉积法制备的Ti O2 薄膜 ,纯度高 ,质量好 。
关 键 词：TIO2 化学气相沉积 X射线光电子能谱
分 类 号：TN304.21]
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