文献类型：期刊文章

作　　者：张志明[1] 莘海维[1] 戴永兵[1] 孙方宏[1] 汪涛[1] 沈荷生[1]

机构地区：[1]上海交通大学微电子研究所,上海200030

出　　处：《微细加工技术》

基　　金：国家863计划新材料领域纳米专项资助项目(2002AA302613);上海市科技发展基金纳米专项资助项目(0159nm033);上海交通大学教育部薄膜与微细技术重点实验室资助项目

年　　份：2003

期　　号：1

起止页码：27-33

语　　种：中文

收录情况：普通刊

摘　　要：系统地研究了热丝CVD法中反应气体压力对沉积产物金刚石薄膜的形貌和拉曼谱图的影响,提出了热丝CVD生长纳米金刚石薄膜的新工艺,并在50mm硅片上沉积得到高质量的多晶纳米金刚石薄膜。高分辨透射电镜分析表明,薄膜的晶粒尺寸约为10nm,〈111〉晶面间距为0.2086nm,与标准值0.2059nm很接近,晶粒周围由非晶结构包围。紫外激光拉曼光谱有尖锐的金刚石峰和明显的石墨峰。

关 键 词：纳米金刚石 薄膜  热丝CVD  

分 类 号：TN304.055]