期刊文章详细信息
工艺条件对溅射薄膜附着性的影响
Effect of Processing Condition on Adhesion of Sputtered Thin Films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]四川大学制造学院材料成型及控制系,四川成都610065
基 金：核燃料及材料国家重点实验室基金 (51 4 81 0 80 1 0 1SC0 1 0 1 )
年 份：2003
卷 号：28
期 号：1
起止页码：29-31
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：溅射薄膜材料应用很广泛 ,其中薄膜的附着性是影响薄膜材料质量的重要因素 ,膜 /基界面结合强度是制约薄膜材料实际应用的关键之一。本文综述了关于溅射薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要工艺因素 ,为改善薄膜质量提供参考依据。
关 键 词：工艺条件 溅射薄膜 界面 附着性
分 类 号：TG174.444]
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