期刊文章详细信息
Nafion干燥器的去溶机理和日常维护
Desolvation mechanism and routine maintenance of Nafion dryer.
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]吉林大学化学院分析科学研究所,长春130023
基 金：吉林省科技发展计划重点项目 (合同号 :2 0 0 10 3 0 6-1)
年 份：2003
期 号：1
起止页码：23-26
语 种：中文
收录情况：CAS、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：介绍了用于原子光谱分析的Nafion干燥器的去溶机理、使用条件及日常维护与清洗。与其他常用去溶系统或干燥器相比较 ,Nafion去溶系统具有更高的去溶效率、更好的选择性、更强的抗腐蚀能力 ,日常维护和清洗简单。该系统不存在记忆效应和峰展宽问题 ,可大大改善原子光谱分析系统的性能。
关 键 词：去溶机理 维护 Nafion干燥器 膜去溶 去溶系统 等离子体 原子光谱分析
分 类 号：O657.3]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
