文献类型：期刊文章

作　　者：田学红[1] 刘刚[1] 田扬超[1] 张新夷[2]

机构地区：[1]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥230029 [2]复旦大学同步辐射研究中心,上海200433

出　　处：《中国科学技术大学学报》

基　　金：国家重点基础研究发展规划课题 (G19990 3310 9)资助项目

年　　份：2002

卷　　号：32

期　　号：6

起止页码：702-706

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、IC、INSPEC、JST、MR、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：论文对合肥同步辐射光源开展深度X 射线光刻进行了理论模拟 .利用Gauss积分法研究了菲涅耳衍射对深度光刻图形精度的影响 .为了模拟衬底产生的光电子对光刻结果的影响 ,构建了一个MonteCarlo模型并进行了模拟 .计算结果表明 。

关 键 词：合肥  X-射线光刻  菲涅耳衍射 光电子 蒙特卡罗模型  同步辐射光源 曝光时间  

分 类 号：TN305.7]