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磁控溅射WO_3薄膜特性研究
Study on the character of WO_3 thin film prepared by magnetron sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]福州大学气敏传感器研究所,福建福州350002
基 金：福建省科技三项费用项目 (K2 0 0 10 15 )
年 份：2002
卷 号：17
期 号：4
起止页码：7-10
语 种：中文
收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：用磁控溅射法制成WO3 薄膜 ,通过改变成膜的溅射参数来改变WO3 薄膜的性能 .利用XRD分析了样品的粒径大小 ,研究了成膜工艺参数对气敏元件性能的影响 .结果表明 ,薄膜中WO3 晶粒的平均尺寸为 17nm ,该传感器对NOx 气体有非常好的灵敏度和选择性 ,对体积分数为 1× 10 - 5的NOx 气体灵敏度高于 5 0倍 ,而对其他干扰气体的灵敏度小于 2倍 .
关 键 词：磁控溅射法 氧化钨 氧化氮 薄膜 气敏元件 气敏材料
分 类 号：TB381[材料类] TP212]
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