文献类型：期刊文章

作　　者：李民康[1,2] 向显嵩[1,2] 周常河[1,2] 韦春龙[1] 贾伟[3] 项长铖[3] 鲁云开[1,2] 朱世曜[1,2]

Li Minkang;Xiang Xiansong;Zhou Changhe;Wei Chunlong;Jia Wei;Xiang Changcheng;Lu Yunkai;Zhu Shiyao(Laboratory of Information Optics and Optoelectronics Techniques,Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China;Center of Materials Science and Optoelectronics Engineering,University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China;Institute of Photonics Technology,Jinan University,Guangzhou,Guangdong 511443,China)

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海201800 [2]中国科学院大学材料与光电研究中心,北京100049 [3]暨南大学光子技术研究院,广东广州511443

出　　处：《光学学报》

基　　金：中国科学院前沿科学重点研究项目(QYZDJ-SSW-JSC014)

年　　份：2019

卷　　号：39

期　　号：9

起止页码：38-46

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2017、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2019_2020、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件。搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模。原子力显微镜和扫描电镜结果表明,所制作的掩模轮廓清晰,空间分布均匀。实验结果证明了超精密激光直写系统能够制作出二维光栅掩模,在制作大尺寸、高精度二维计量光栅方面有着广阔的应用前景。

关 键 词：光栅 超精密系统  激光直写 栅距测量  

分 类 号：TN241] TN405