文献类型：期刊文章

作　　者：曹丽冉[1,2,3] 陈新亮[1,2,3] 薛俊明[1,2,3] 张德坤[1,2,3] 孙建[1,2,3] 赵颖[1,2,3] 耿新华[1,2,3]

机构地区：[1]南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 [2]南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室 [3]南开大学光电信息技术科学教育部重点实验室,天津300071

出　　处：《光电子．激光》

基　　金：国家"973"重点基础研究资助项目(2006CB202602;2006CB202603);天津市科技发展规划资助项目(06YFGZGX02100);天津市国家科技计划配套资助项目(07QTPTJC29500);天津市自然科学基金资助项目(06YFJZJC01700)

年　　份：2009

卷　　号：20

期　　号：1

起止页码：44-48

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2008、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20091011946520)、核心刊

摘　　要：采用反应热蒸发法制备ITO薄膜,详细研究了氧分压对薄膜的晶体结构及光电性能的影响。当氧分压较小时,在XRD谱中发现了对应于SnO(112)晶向的衍射峰,随着氧分压的增大,薄膜的晶体结构变得完整,性能得到了改善,在较低的衬底温度下(TS=160℃)获得最小的电阻率为5.3×10-4Ωcm,但是,当更多的氧进入薄膜后一方面填充了氧空位,另一方面与Sn4+相结合形成复合中性粒子(Sn+In)2O"i,使得锡的掺杂作用减弱,薄膜的电阻率增大,同时在近红外区域的透过率增大。

关 键 词：ITO薄膜 反应热蒸发  氧分压 散射机制

分 类 号：TN304.055]